苹果Logo采用了CMP化学机械平面抛光工艺，借助CMP设备、研磨液/抛光液和抛光垫的作用达到金属工件表面镜面效果，提升logo质感。
苹果 Logo抛光一般分为2道工序：第一道粗磨，第二道抛光。抛光研磨过程中气缸压力、研磨盘转速、研磨液流速等工艺参数直接影成品的效果。批量抛光Apple logo的时候，抛光液成分、粒径和配比等关系到生产效率和成本。吉致电子有丰富的智能设备抛光经验，吉致电子抛光液输出稳定，加工效率快，效果更佳，与国际公司长期合作，苹果Logo专用抛光液品质有保障。相关产品和技术需求可免费来电咨询，为您解决抛光难题！
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