蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子CMP抛光液，是一种高纯度的氧化硅抛光液，广泛应用于多种材料的纳米级高平坦化抛光，是Wafer减薄抛光液抛光浆料slurry。
吉致电子生产的蓝宝石抛光液主要用于蓝宝石衬底研磨减薄，蓝宝石A向抛光液，蓝宝石C向抛光液等。抛光范围如：硅片、锗片、化合物晶体磷化铟、砷化镓、精密光学器件、宝石饰品、金属镜面等研磨抛光加工。
蓝宝石抛光液Sapphire Slurry的特点：
1.高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减少对电子类产品的污染。
2.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。
3.高平坦度加工，蓝宝石CMP抛光液是利用SiO2的胶体粒子进行抛光，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。
蓝宝石抛光液根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液，吉致电子研发工程师可根据客户具体需求定制配液，达到理想抛光效果。
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