精密研磨粉高纯球形硅粉用于光学器件和光电行业的精密研磨，特别适用于半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器(LCD、LED)玻璃基板、压电晶体、化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟)、磁性材料等半导体行业的研磨抛光。
吉致电子http://www.jzdz-wx.com/用高纯球形硅粉制备成的超高纯硅溶胶抛光液slurry,主要用于硅晶圆片的精密抛光,集成电路的CMP抛光液调制,广泛使用在各种尺寸的Si片硅晶片,Ge片锗晶片,GaAs片,集成电路中的ILD及导线,石英玻璃,硬盘基片,IC电路,光电子晶体材料,LED蓝宝石衬底、基片、外延片等半导体材料表面高平坦抛光(CMP)加工上。
吉致电子CMP抛光液的种类:
硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化镓抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、陶瓷覆铜板研磨液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、不锈钢抛光液、氧化铝抛光液、铝合金抛光液、LOGO抛光液、铜抛光液、金刚石抛光液、氧化铈研磨液等。免费样品可咨询：17706168670李女士
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