CMP化学机械抛光液对陶瓷覆铜基板的抛光研磨，可以做到粗抛、中抛、精抛效果。粗抛工艺，陶瓷覆铜板表面去除率高，快速抛磨。精抛工艺，基板表面无划痕，可达反光镜面效果。吉致电子针对陶瓷覆铜板制备的抛光研磨液，悬浮性好，磨料分散均匀，抛磨中还能起到润滑、降温、防锈等效果。吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/ 对于质量度要求更高的DPC基板，表面粗糙度RA值可达0.003μm以下。可根据不同工艺调整抛光slurry浆料。
吉致电子http://www.jzdz-wx.com/抛光液厂家，25年致力研发生产不锈钢抛光液/硅晶圆抛光液/蓝宝石抛光液/红外玻璃抛光液等CMP材料，可实现各种工件表面去粗、粗抛、中抛、镜面不同阶段效果。、
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此文关键字：陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液/半导体抛光液
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