其中α相的氧化铝为其他相的氧化铝高温转变而成。作为CMP抛光液用的α氧化铝颗粒，根据抛光(粗抛/精抛)的要求不同，a -Al2O3平均颗粒大小可以从100nm到500/1000nm而不同,但不论是哪种抛光，氧化铝的硬团聚体，或超大颗粒越少越好，这些超大颗粒会在抛光过程中给晶体表面造成划伤，导致整个抛光过程失败。
所以，在制备以a-Al2O3为主体的化学机械抛光液过程中，如何控制超大颗粒是一关键。吉致电子氧化铝研磨液/氧化铝精抛液，颗粒经表面改性处理，按特殊化学配方充分混合制备而成，具有减薄下尺寸强等优点，抛光效率高且不结晶。粒径分布适中，氧化铝抛光液分散性好，有效避免颗粒团聚造成的工件划伤。吉致电子生产研发的纳米抛光液性价比高，纳米氧化铝抛光液最小可达100nm以下。
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