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磨料在CMP抛光液中的作用

     2023-08-25 11:20:35     0
抛光磨料是CMP集成电路抛光液中的主要成分,在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面,达到机械去除材料的作用。
化学机械抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液,混合磨料抛光液,复合磨料
抛光液
磨料在CMP抛光过程中起到的作用为:
(1)机械作用的实施者,起机械磨削作用;
(2)传输物料的功能,不仅将新鲜浆料传输至
抛光垫与被抛材料之间,还将反应物带离材料表面,使得材料新生表面露出,进一步反应去除。
所以选择CMP化学机械抛光液slurry时记得考虑分散性好,流动性好,硬度适中,易于清洗的抛光液产品,选择靠谱
抛光液厂家很重要!有相关问题可以咨询吉致电子17706168670。
无锡吉致电子科技有限公司
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