化学机械抛光液升级配方可用于半导体行业硅片硅衬底减薄、碳化硅衬底抛光、蓝宝石衬底抛光。针对性更强的抛光液产品如阻挡层化学机械抛光液,钨化学机械抛光液以及介质层化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液、用于3D封装TSV化学机械抛光液可详细咨询。lapping研磨抛光液的特点是不伤机台和工件,液体分散性好,提高抛光速率改善工件表面质量,易清洗无残留。
吉致电子http://www.jzdz-wx.com/科技25年研发经验,实力抛光液生产厂家,可按客户要求调整改良配方,提高工件抛磨效果。
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
邮编:214000
地址:江苏省无锡市新吴区行创四路19-2
此文关键字:CMP抛光液 抛光液生产厂家 浅槽隔离化学机械抛光液 阻挡层化学机械抛光液 钨化学机械抛光液
原文链接:http://www.36sw.com/news/249125.html,转载和复制请保留此链接。
以上就是关于吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些?全部的内容,关注我们,带您了解更多相关内容。
以上就是关于吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些?全部的内容,关注我们,带您了解更多相关内容。